电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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铬酸水溶液: 三氧化铬10克 水100亳升 |
电解浸蚀,以试样为正极,不锈钢为负极,相距18~25亳米,电压6伏,浸蚀30~90秒 |
添铁素体晶界外,一切组织均能显示,渗碳体易浸蚀,奥氏体次之 |
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10%草酸电解液: 草酸 10克水 100亳升 |
电解时间0.7~1分钟 电流密度20~30安/厘米2 电解时间20~40秒 电流密度10~20安/厘米2 电解时间1.6~1.8分钟 电流密度10~20安/厘米2 |
显示奥氏体不锈钢晶和碳化物。 显示4Cr14Ni14W4Mo钢退火材的奥氏体和碳化物 显示提造钢退火或猝火组织,GCr15的碳化物。 |
低倍组织热酸蚀腐蚀检查钢材原材料缺陷和锻造流线。无锡腐蚀制样设备厂家

低倍组织热腐蚀,缺陷检验低倍组织检验是用肉眼或放大适当的倍数来观察试样浸蚀面的宏观组织缺陷及断口形貌的一种检测方法。低倍检验常用的方法有酸蚀、断口形貌、硫印、塔形发纹等,其中酸蚀又包括热酸腐蚀法、冷酸腐蚀法及电解腐蚀法,如需仲裁是推荐使用热酸腐蚀法。低倍检验所需设备简单,操作简便迅速结果直观,易于掌握。它是鉴定制品品质的一种重要方法,也是研究工艺制造以及对制品进行品质分析时普遍采用的一种手段。低倍检验时试样的粗糙度要保证,不得有油污和加工伤痕;酸洗时的温度和时间要适宜;清洗时试样表面的腐蚀产物要刷干净,并及时吹干;酸洗后需立即评定。无锡金相电解腐蚀电解抛光腐蚀,实时测量。

电解抛光腐蚀仪器构成包括直流电源部分、腐蚀器和控温系统。直流电源输出端接腐蚀器的输入端,腐蚀器与控温系统相连接。直流电源恒定输出预设电压和恒定输出电流给腐蚀器,以及输出电路中设置电流过载保护器,用于腐蚀器在工作过程中保持恒定的电压和电流;直流电源中设有时间继电器,用于样品电解时间到达设定时间后,关闭电流、电压的输出,同时蜂鸣器提醒;腐蚀器包括电极,样品罩,搅拌器,控温系统由加热控制单元和冷却盘管组成。折叠编辑本段特点电解抛光腐蚀仪可实现恒定电压、恒定电流方式工作,可控制样试样的电解电流密度,能快速而有效地对金属材料进行电解抛光和腐蚀,具有重复性好,操作控制方便等特点。
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。电解抛光腐蚀,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀。

晶间腐蚀,晶间腐蚀是一种局部腐蚀,主要发生在金属材料的晶粒间界区,沿着晶界发展,晶界吸附理论:低碳不锈钢在℃固溶处理后,在强氧化性介质中也会出现晶间腐蚀,此时不能用贫铬或相析出理论来解释。当杂质达或杂质达时,它们在高温区会使晶界吸附,并偏析在晶界上,这些杂质在强氧化剂介质作用下便发生溶解,导致晶界选择性的晶间腐蚀,不过这种钢经敏化处理后,反而不出现晶间腐蚀,这是由于碳和磷生成磷的碳化物,限制了磷向晶界的扩散,减轻杂质在晶界的偏析,消除或减弱了对晶间腐蚀的敏感性。低倍组织热酸蚀腐蚀触摸屏操控显示,简单直观。无锡金相电解腐蚀
晶间腐蚀,有冷凝水传感器检测,无水停机报警。无锡腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀缺点,电解抛光由于没有机械力的作用,所以没有变形层产生,也没有金属扰动层,能够显示试样材质的真实组织。由于抛光时试样是浸泡在电解液中,电解液对试样有浸蚀作用,有些试样抛光后就可直接观察组织,不必再进行组织显示。电解抛光特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。无锡腐蚀制样设备厂家
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